特許
J-GLOBAL ID：201503092425491380
反射光分布予測装置、光沢度予測装置、及び光沢感予測装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
黒田 壽
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-258849
公開番号（公開出願番号）：特開2015-114299
出願日： 2013年12月16日
公開日（公表日）： 2015年06月22日
要約：
【課題】物体の表面の反射光分布を精度良く予測する。【解決手段】物体の表面を所定の平面サイズ毎に区画し、各区画についてそれぞれ物体表面の区画内における3次元局所曲面を近似局所平面に変換した近似平面式を算出し、それぞれの近似局所平面における反射方向及び屈折率に基づいて、それぞれの近似局所平面での鏡面反射率を算出し、それらの算出結果に基づいて、物体の物体の表面における反射光分布を解析する反射光分布予測装置であって、前記物体の表面を複数に区画する際に、前記表面の高さ方向に延在するZ軸に直交する仮想平面であるX-Y平面に沿って前記物体の表面を1辺が0.7[μm]以下の四角形に区画する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
物体の表面における光の屈折率、前記物体の表面に対する光の入射角度、及び前記物体の3次元表面形状を示すための3次元座標のデータ群を外部から取得した結果に基づいて、前記物体の表面を所定の平面サイズ毎に区画し、各区画についてそれぞれ物体表面の区画内における3次元局所曲面を近似局所平面に変換した近似平面式を算出し、それぞれの近似局所平面における前記反射方向及び前記屈折率に基づいて、それぞれの近似局所平面における光の鏡面反射率を算出し、それぞれの近似局所平面における前記鏡面反射率に基づいて、前記物体の表面における反射光分布を解析する反射光分布予測装置であって、
前記物体の表面を複数に区画する際に、前記表面の高さ方向に延在するZ軸に直交する仮想平面であるX-Y平面に沿って前記物体の表面を1辺が0.7[μm]以下の四角形に区画することを特徴とする反射光分布予測装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (4件)：
2G059AA02
, 2G059AA05
, 2G059EE02
, 2G059FF01
