特許
J-GLOBAL ID：201503092493944473
マイクロ波プラズマ処理装置及びマイクロ波供給方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
酒井 宏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-145045
公開番号（公開出願番号）：特開2015-018683
出願日： 2013年07月10日
公開日（公表日）： 2015年01月29日
要約：
【課題】マイクロ波により励起されるプラズマの分布の均一性を保つこと。【解決手段】マイクロ波プラズマ処理装置は、処理空間を画成する処理容器と、処理空間に導入される処理ガスをプラズマ化するためのマイクロ波を発生するマイクロ波発生器と、マイクロ波を複数の導波管へ分配する分配器と、処理空間を密閉するように処理容器に設けられ、分配器によって複数の導波管へ分配されるマイクロ波を処理空間へ放射するアンテナと、複数の導波管の各々の電圧をモニタするモニタ部と、モニタ部によってモニタされた電圧のモニタ値と予め定められた電圧の基準値との差に対応する分配器の分配比の制御値を、差と、該差に対応する分配器の分配比の制御値とを対応付けて記憶する記憶部から取得し、取得した制御値に基づいて分配器の分配比を制御する制御部とを備えた。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
処理空間を画成する処理容器と、
前記処理空間に導入される処理ガスをプラズマ化するためのマイクロ波を発生するマイクロ波発生器と、
前記マイクロ波を複数の導波管へ分配する分配器と、
前記処理空間を密閉するように前記処理容器に設けられ、前記分配器によって前記複数の導波管へ分配されるマイクロ波を前記処理空間へ放射するアンテナと、
前記複数の導波管の各々の電圧をモニタするモニタ部と、
前記モニタ部によってモニタされた前記電圧のモニタ値と予め定められた前記電圧の基準値との差に対応する前記分配器の分配比の制御値を、前記差と、該差に対応する前記分配器の分配比の制御値とを対応付けて記憶する記憶部から取得し、取得した制御値に基づいて前記分配器の分配比を制御する制御部と
を備えたことを特徴とするマイクロ波プラズマ処理装置。
IPC (1件)：
FI (2件)：
引用特許：
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