特許
J-GLOBAL ID：201503093271139315
気体分離膜の設計方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
川崎 好昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-231961
公開番号（公開出願番号）：特開2015-093207
出願日： 2013年11月08日
公開日（公表日）： 2015年05月18日
要約：
【課題】本発明は、規則正しい空孔構造を有する高分子材料に応力を印加することで、空孔構造を設計して気体から一部の気体分子を選択的に透過させることを可能とする気体分離膜の設計方法を提供することを目的とする。【解決手段】高分子鎖に沿う軸方向に気体を透過する空孔が形成されたε型結晶からなるシンジオタクチックポリスチレンに対して軸方向と直交する方向から圧縮応力を印加することで、S-I型結晶に構造転移させる。S-I型結晶には、気体分子を収容可能に形成されるとともにジグザグ状に配置された多数の空隙と、空隙よりも狭く形成されるとともに隣接配置された空隙同士を順次連結する多数の連通路とを有する空孔が形成されて、気体の一部の気体分子が選択的に透過するように空孔を設計することができる。【選択図】図8
請求項（抜粋）：
高分子材料からなる気体分離膜の設計方法であって、高分子鎖に沿う軸方向に気体を透過する空孔が形成された結晶構造を有する高分子材料に対して当該軸方向と直交する軸方向の圧縮応力を印加することにより結晶構造を転移させることで、気体の一部の気体分子が選択的に透過するように空孔を設計する気体分離膜の設計方法。
IPC (3件)：
B01D 67/00
, B01D 69/00
, B01D 71/28
B01D67/00
, B01D69/00
, B01D71/28
4D006GA41
, 4D006MB04
, 4D006MC24
, 4D006PA04
, 4D006PB19
, 4D006PB64
