特許
J-GLOBAL ID：201503094395234207
液浸リソグラフィ流体制御システム
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
川北 喜十郎
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-200777
公開番号（公開出願番号）：特開2014-013939
特許番号：特許第5679023号
出願日： 2013年09月27日
公開日（公表日）： 2014年01月23日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 液浸リソグラフィ用の流体制御システムであって、
光学部材であって前記光学部材と該光学部材に対向して配置された表面との間にギャップが画成されている前記光学部材と、
前記ギャップ内に特定される露光領域に液体を供給するための流体供給デバイスと、
加圧ガス源に接続されたガスアウトレットを含み、前記ガスアウトレットを通じて加圧ガスを送出することによって前記液体が前記露光領域外部の特定の周辺領域に入ることを妨げる流体制御デバイスとを備え、
前記流体供給デバイスより供給された前記液体とガスとの境界面において、前記加圧ガスは、2〜200m/秒の速度を有し、
前記ガスアウトレットは前記表面に対して斜めに向けられている流体制御システム。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, G03F 7/20 ( 200 6.01)
H01L 21/30 515 D
, G03F 7/20 521
