特許
J-GLOBAL ID:201503095427320891

非誤差関数圧縮応力プロファイルによるイオン交換ガラス

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 柳田 征史 ,  佐久間 剛
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-559996
公開番号(公開出願番号):特表2015-511573
出願日: 2013年02月27日
公開日(公表日): 2015年04月20日
要約:
貯蔵された張力の所定のレベルにおいて、相補誤差関数に従う応力プロファイルを有するガラスにおいて許容可能であるよりも高い表面圧縮およびより深い層深さ(DOL)を可能にする圧縮応力プロファイルを有するガラス。いくつかの例において、亀裂系の方向を変えることができる埋め込み層または増加する圧縮の極大が、層深さ内に存在する。これらの圧縮応力プロファイルは、相補誤差関数に従う圧縮応力および層深さを作り出す第一イオン交換工程と、ガラス内の応力を部分的に緩和させてより大きなアルカリイオンをより深くまで拡散させる、ガラスの歪点より低い温度での熱処理と、表面において高い圧縮応力を再確立するための短時間での再イオン交換と、を含む3工程プロセスによって達成される。
請求項(抜粋):
表面および厚さtを有するガラスであって、 前記ガラス中において前記表面から層深さDOLまで広がる、圧縮応力下の第一領域であって、前記圧縮応力CSが、前記表面において最大値CS1を有し、かつ相補誤差関数以外の関数に従って前記表面からの距離dにより変わる、第一領域と、 前記層深さから前記ガラス中へと広がる、引張応力CT下の第二領域と を含むガラス。
IPC (1件):
C03C 21/00
FI (1件):
C03C21/00 101
Fターム (5件):
4G059AA01 ,  4G059AA08 ,  4G059AC16 ,  4G059HB03 ,  4G059HB14
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (3件)

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