特許
J-GLOBAL ID：201503095535125078
蒸着マスク、及び有機半導体素子の製造方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
特許業務法人 インテクト国際特許事務所
, 石川 泰男
, 石橋 良規
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-205836
公開番号（公開出願番号）：特開2015-067892
出願日： 2013年09月30日
公開日（公表日）： 2015年04月13日
要約：
【課題】大型化した場合でも高精細化と軽量化の双方を満たし、樹脂マスクの開口部にダメージを与えることを抑制しつつも蒸着マスクに付着等した滓を容易に除去することができ、長期にわたって高精細な蒸着パターンの形成が可能な蒸着マスクを提供すること、及び、有機半導体素子を精度よく製造することができる有機半導体素子の製造方法を提供すること。【解決手段】蒸着作製するパターンに対応する開口部25が設けられた樹脂マスク20の一方の面上に、スリット15が設けられた金属マスク10が積層されてなる蒸着マスク100であって、樹脂マスク20の一方の面においてスリット15と重なる位置に対応する領域、及び前記樹脂マスクの他方の面の何れか一方、又は双方の面上に防汚層40が設けられている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
蒸着作製するパターンに対応する開口部が設けられた樹脂マスクの一方の面上に、スリットが設けられた金属マスクが積層されてなる蒸着マスクであって、
前記樹脂マスクの一方の面において前記スリットと重なる位置に対応する領域、及び前記樹脂マスクの他方の面の何れか一方、又は双方の面上に防汚層が設けられていることを特徴とする蒸着マスク。
IPC (3件)：
C23C 14/24
, H01L 51/50
, H05B 33/10
C23C14/24 G
, H05B33/14 A
, H05B33/10
3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107CC35
, 3K107CC42
, 3K107CC45
, 3K107GG04
, 3K107GG33
, 4K029AA09
, 4K029AA24
, 4K029BA62
, 4K029BB03
, 4K029BD01
, 4K029CA01
, 4K029DB06
, 4K029HA02
, 4K029HA03
