特許
J-GLOBAL ID：201503096010259398
近接露光装置及び近接露光方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
濱田 百合子
, 本多 弘徳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-153769
公開番号（公開出願番号）：特開2015-026644
出願日： 2013年07月24日
公開日（公表日）： 2015年02月05日
要約：
【課題】露光する際にチップの位置とマスクのパターンの位置にずれが生じた場合であって、良好な露光精度が得られる近接露光装置及び近接露光方法を提供する。【解決手段】近接露光装置10は、マスクMのパターンの開口部と被露光材の位置ずれを複数箇所で計測するアライメントカメラと、平面ミラー38の周縁部又は裏面をそれぞれ支持する複数の支持機構と、該複数の支持機構をそれぞれ移動可能な複数のモータ75と、を有し、平面ミラー38を部分的に弾性変形させる反射ミラー調整機構と、を備え、複数箇所での位置ずれに基づいて、複数のモータ75をそれぞれ駆動することで、平面ミラー38を部分的に弾性変形させ、該位置ずれを矯正するように露光光の光軸を調整する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
複数のチップが配列される、被露光材としての基板を保持する基板保持部と、
露光すべきパターンを有するマスクを保持するマスク保持部と、
前記マスクに対して前記基板と反対側に配設され、光源及び該光源からの露光光を反射する反射ミラーを備えた照明光学系と、
を備え、前記光源からの露光光を前記マスクを介して前記基板に照射し、前記マスクのパターンを前記基板に転写する近接露光装置であって、
前記マスクのパターンの開口部と前記チップの位置ずれの量を複数箇所で計測するアライメントカメラと、
前記反射ミラーの周縁部又は裏面をそれぞれ支持する複数の支持機構と、該複数の支持機構をそれぞれ移動可能な複数の駆動手段と、を備え、前記反射ミラーを部分的に弾性変形可能な反射ミラー調整機構と、を備え、
前記複数箇所での位置ずれ量に基づいて、前記複数の駆動手段をそれぞれ駆動することで、前記反射ミラーを部分的に弾性変形させ、該位置ずれを矯正するように前記露光光の光軸を調整することを特徴とする近接露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G02B 19/00
, G02B 5/10
H01L21/30 510
, H01L21/30 527
, G02B19/00
, G02B5/10 B
2H042DA20
, 2H042DD11
, 2H042DE04
, 2H052BA02
, 2H052BA03
, 2H052BA09
, 2H052BA12
, 5F146AA04
, 5F146CB02
, 5F146CC02
, 5F146CC03
, 5F146FA10
, 5F146FC10
