特許

J-GLOBAL ID：201503098590171053

ハニカム構造体およびこれを用いたガス処理装置

発明者： 徳留 修 ,  山口 新一
出願人/特許権者： 京セラ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-204364
公開番号（公開出願番号）：特開2015-066517
出願日： 2013年09月30日
公開日（公表日）： 2015年04月13日
要約：

【課題】 優れた機械的強度を有しつつ、隔壁における圧力損失の低いハニカム構造体と、このハニカム構造体を備えるガス処理装置とを提供する。 【解決手段】 外壁2と、外壁2の内側に設けられた複数の隔壁3と、封止材4とを備え、外壁2および隔壁3、または隔壁3同士で囲まれた空間が流通路5となり、流通路5の流入口または流出口が封止材4により封止されてなり、隔壁3の気孔率が38%以上56%以下であり、ハニカム構造体の軸方向に垂直な隔壁3の断面における流体の流入側表面から流出側表面に連通する連通気孔6aの面積率が25%以上45%以下であり、気孔率に対する面積率の比率が0.45以上0.80以下であるハニカム構造体1である。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

外壁と、該外壁の内側に設けられた複数の隔壁と、封止材とを備え、前記外壁および前記隔壁、または前記隔壁同士で囲まれた空間が流体の流通路となり、該流通路の流入口または流出口が前記封止材により封止されてなるハニカム構造体であり、前記隔壁の気孔率が38%以上56%以下であり、前記ハニカム構造体の軸方向に垂直な前記隔壁の断面における前記流体の流入側表面から流出側表面に連通する連通気孔の面積率が25%以上45%以下であり、前記気孔率に対する前記面積率の比率が0.45以上0.80以下であることを特徴とするハニカム構造体。

IPC (3件)：

B01D 39/20 ,  B01D 46/00 ,  F01N 3/022

FI (3件)：

B01D39/20 D ,  B01D46/00 302 ,  F01N3/02 301C

Fターム (17件)：

3G190AA12 ,  3G190AA13 ,  3G190BA02 ,  3G190BA26 ,  3G190BA41 ,  3G190CA04 ,  3G190CA13 ,  4D019AA01 ,  4D019BA05 ,  4D019BB06 ,  4D019BD01 ,  4D019CA01 ,  4D019CB04 ,  4D058JA38 ,  4D058JB06 ,  4D058JB41 ,  4D058SA08