特許
J-GLOBAL ID：201503098770863328

基板処理装置および基板処理方法

発明者：
仲野 彰義

仲野 彰義 について

, 
吉田 幸史

吉田 幸史 について


出願人/特許権者：
株式会社SCREENホールディングス

株式会社SCREENホールディングス について


代理人 (2件)： 吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-201425
公開番号（公開出願番号）：特開2015-070031
出願日： 2013年09月27日
公開日（公表日）： 2015年04月13日
要約：
【課題】基板の下面に供給された処理液が基板の上面に回り込むことを抑制できる技術を提供する。【解決手段】スピンベースの上方に基板9を保持する保持部25は、基板9の斜め下から基板9に当接して、基板9をスピンベース21の上面から離間した位置に水平姿勢で保持する複数の第1当接部材210と、基板9の側方から基板9に当接して、基板9をスピンベース21の上面から離間した位置に水平姿勢で保持する複数の第2当接部材220と、複数の第1当接部材210が基板9を保持する状態と複数の第2当接部材220が基板9を保持する状態とを切り換える切換部230と、を備える。第2保持状態において、第1当接部材210が基板9から離間している。第1保持状態において、基板9の上面が第1当接部材210の上端よりも高い位置にあり、かつ、第2当接部材220が基板9から離間している。【選択図】図6
請求項（抜粋）：
回転軸を中心に水平面内で回転されるスピンベースと、 前記スピンベースの上方に基板を保持する保持部と、 前記保持部に保持される前記基板の下面に向けて、処理液を吐出する下面処理部と、 を備え、 前記保持部が、 基板の斜め下から前記基板に当接して、前記基板を、前記スピンベースの上面から離間した位置に水平姿勢で保持する、複数の第1当接部材と、 基板の側方から前記基板に当接して、前記基板を、前記スピンベースの上面から離間した位置に水平姿勢で保持する、複数の第2当接部材と、 前記複数の第1当接部材が基板を保持する第1保持状態と、前記複数の第2当接部材が基板を保持する第2保持状態と、を切り換える切換部と、 を備え、 前記第2保持状態において、前記第1当接部材が基板から離間しており、 前記第1保持状態において、基板の上面が前記第1当接部材の上端よりも高い位置にあり、かつ、前記第2当接部材が前記基板から離間している、 基板処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/304 ,  G02F 1/13 ,  G02F 1/133 ,  H01L 21/306
FI (5件)：
H01L21/304 643A ,  H01L21/304 648G ,  G02F1/13 101 ,  G02F1/1333 500 ,  H01L21/306 R
Fターム (31件)：
2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H190JC19 ,  5F043DD13 ,  5F043EE07 ,  5F043EE08 ,  5F043EE09 ,  5F043EE35 ,  5F157AA16 ,  5F157AB02 ,  5F157AB14 ,  5F157AB33 ,  5F157AB64 ,  5F157AB90 ,  5F157AC01 ,  5F157AC02 ,  5F157AC04 ,  5F157AC26 ,  5F157BB22 ,  5F157CB03 ,  5F157CB13 ,  5F157CC31 ,  5F157CF58 ,  5F157CF62 ,  5F157CF92 ,  5F157DA21 ,  5F157DB02 ,  5F157DB38 ,  5F157DB51 ,  5F157DC90
引用特許：
出願人引用 (3件)

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