特許

J-GLOBAL ID：201503098899818353

ガスバリアーフィルム、ガスバリアーフィルムの製造方法及びガスバリアーフィルムの製造装置

発明者： 廣瀬 達也 ,  蔵方 慎一
出願人/特許権者： コニカミノルタ株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人光陽国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-123327
公開番号（公開出願番号）：特開2014-240462
出願日： 2013年06月12日
公開日（公表日）： 2014年12月25日
要約：

【課題】本発明の課題は、ガスバリアーフィルムの製造時間を短縮しつつガスバリアー性及び湿熱耐性を向上させることである。【解決手段】本発明のガスバリアーフィルムの製造方法は、少なくとも酸素を含む雰囲気下で樹脂製のフィルム基材の一方の面に対し、ポリシラザンを含む溶液を液滴化して塗布する液滴塗布工程と、前記液滴塗布工程により前記一方の面に塗布された前記溶液を乾燥させてポリシラザン層を形成する乾燥工程と、低酸素濃度の雰囲気下で前記ポリシラザン層に対して紫外線照射又はプラズマ照射を行うことで、前記ポリシラザン層を改質してガスバリアー層とする改質工程と、をこの順に行うことを特徴とする。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

少なくとも酸素を含む雰囲気下で樹脂製のフィルム基材の一方の面に対し、ポリシラザンを含む溶液を液滴化して塗布する液滴塗布工程と、 前記液滴塗布工程により前記一方の面に塗布された前記溶液を乾燥させてポリシラザン層を形成する乾燥工程と、 低酸素濃度の雰囲気下で前記ポリシラザン層に対して紫外線照射又はプラズマ照射を行うことで、前記ポリシラザン層を改質してガスバリアー層とする改質工程と、 をこの順に行うことを特徴とするガスバリアーフィルムの製造方法。

IPC (7件)：

C08J 7/04 ,  B05D 7/24 ,  B05D 3/04 ,  B05D 3/06 ,  B32B 27/00 ,  B32B 27/16 ,  B05C 5/00

FI (7件)：

C08J7/04 P ,  B05D7/24 302A ,  B05D3/04 C ,  B05D3/06 102Z ,  B32B27/00 101 ,  B32B27/16 ,  B05C5/00 101

Fターム (41件)：

4D075AA01 ,  4D075AA09 ,  4D075BB46Z ,  4D075BB49Z ,  4D075BB85X ,  4D075CA42 ,  4D075DB48 ,  4D075DC21 ,  4D075DC24 ,  4D075EB42 ,  4D075EC30 ,  4F006AA35 ,  4F006AB39 ,  4F006BA05 ,  4F006CA05 ,  4F006CA08 ,  4F006EA03 ,  4F033QA01 ,  4F033QB02Y ,  4F033QB03X ,  4F034AA04 ,  4F034BA01 ,  4F034BA31 ,  4F034BB16 ,  4F041AA02 ,  4F041AA05 ,  4F041AB01 ,  4F041BA10 ,  4F041BA51 ,  4F042AA06 ,  4F042AB00 ,  4F042BA21 ,  4F042DB01 ,  4F042DB41 ,  4F100AK01A ,  4F100AK79B ,  4F100EH46B ,  4F100EJ54B ,  4F100EJ55B ,  4F100GB41 ,  4F100JD04C