特許

J-GLOBAL ID：201503099019139491

ガラスマスクおよび半導体装置の製造方法

発明者： 岡田 昌芳
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (4件)： 田中 光雄 ,  山崎 宏 ,  磯江 悦子 ,  山崎 敏行
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-252112
公開番号（公開出願番号）：特開2015-108762
出願日： 2013年12月05日
公開日（公表日）： 2015年06月11日
要約：

【課題】シフト露光を精度高くできるガラスマスクを提供する。【解決手段】ガラスマスク(100)は、ガラス支持体(1)と、周期性を有する複数の要素(2)を有する加工パターン(20)と、第1重ね合せ測定基準パターン(3)と、第2重ね合せ測定基準パターン(4)とを有する。上記第1重ね合せ測定基準パターン(3)と第2重ね合せ測定基準パターン(4)を結ぶ直線方向は、その直線方向に沿って、上記加工パターン(20)を移動したときに、移動前の加工パターン(20)の要素(2)と移動後の加工パターン(20)の要素(2)とが離間して重ならないようにすることが可能な方向である。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

ガラス支持体と、 このガラス支持体に設けられた周期性を有する複数の要素を有する加工パターンと、 上記ガラス支持体に設けられた第1重ね合せ測定基準パターンと、 上記ガラス支持体に設けられた第2重ね合せ測定基準パターンと を備え、 上記第1重ね合せ測定基準パターンと上記第2重ね合せ測定基準パターンを結ぶ直線方向は、その直線方向に沿って、上記加工パターンを移動したときに、移動前の上記加工パターンの要素と移動後の上記加工パターンの要素とが離間して重ならないようにすることが可能な方向である ことを特徴とするガラスマスク。

IPC (3件)：

G02B 5/20 ,  G03F 1/68 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G02B5/20 ,  G03F1/68 ,  H01L21/30 514A

Fターム (16件)：

2H095BB02 ,  2H095BE03 ,  2H095BE08 ,  2H095BE09 ,  2H148AA09 ,  2H148AA21 ,  2H148BA03 ,  2H148BC08 ,  2H148BC10 ,  2H195BB02 ,  2H195BE03 ,  2H195BE08 ,  2H195BE09 ,  5F146AA13 ,  5F146CB17 ,  5F146EC05