研究者
J-GLOBAL ID:201601002013873492   更新日: 2026年04月03日

上柿 順一

ウエガキ ジュンイチ | Uegaki Jun'ichi
所属機関・部署:
研究分野 (3件): 原子力工学 ,  量子ビーム科学 ,  プラズマ科学
研究キーワード (6件): 原子核物理学 ,  電子ビーム描画装置 ,  イオンビーム照射装置 ,  集束イオンビーム加工装置 ,  プラズマエッチング装置 ,  ナノ・インデンテーション・テスター
競争的資金等の研究課題 (2件):
  • 2006 - 2009 ダイヤモンド電子銃を搭載した電子ビーム描画装置の開発
  • 1993 - 1994 ヘリコン波プラズマを用いたエッチング装置の試作
論文 (30件):
MISC (13件):
  • 阿部 康之, 佐藤 智也, 芳賀 昭, 山崎 慶太, 加藤 和夫, 佐久間 征彦, 上柿 順一. EB装置内部におけるアクティブ磁気シールドの遮蔽効果. 日本応用磁気学会学術講演概要集 = Digest of ... annual conference on magnetics in Japan. 2003. 27. 311-311
  • 山崎 慶太, 加藤 和夫, 足穂 孝平, 宇田 敬史, 平岡 慎太郎, 藤原 耕二, 高橋 則雄, 佐藤 智也, 芳賀 昭, 上柿 順一, et al. 電子線描画装置に適したアクティブ磁気シールドの検討. 電気学会研究会資料. MAG, マグネティックス研究会. 2002. 2002. 184. 53-59
  • 上柿 順一. ナノ電子ビーム描画装置とその応用技術. 日本学術振興会 荷電粒子ビームの工業への応用第132委員会 第2回ナノビームテクノロジーシンポジウム技術研究会資料( 2001年12月13~14日)p.39. 2002. 39
  • J.Uegaki. Performance of a Compact ECR Ion Source. Proc. 12th Symp. On ISIAT’89, Tokyo (1989). 1989. 95
  • 植田暁彦, 西林良樹, 池田和寛, 辰巳夏生, 今井貴浩, 上柿順一, 布川博, 土田智之, 小若裕則, 本目精吾, et al. ダイヤモンド電子源の開発とその応用. (独)日本学術振興会 真空ナノエレクトロニクス第158委員会 第83回研究会資料(2010年6月24日)
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講演・口頭発表等 (6件):
  • 磁性流体研磨剤を使用した切削時同時研磨の試み
    (第26回テクニスト研究会 2015)
  • 反射鏡による太陽光熱収集の試み
    (理研シンポジウム 「明るい未来の光熱エネルギー」 2015)
  • 電子ビーム描画装置の紹介とその技術継承に関する雑感
    (第5回技術継承フォーラム「ものづくり技能継承の現状と展望」 2013)
  • Nano scale Fabrication by using Focused Ion Beam Milling System
    (The Third International Conference on nano Manufacturing 2012)
  • 集束イオンビームを利用した超微細加工装置と加工例
    (第42回マイクロ加工懇談会 マイクロ加工研究会 2012)
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学歴 (3件):
  • 1971 - 1976 東北大学大学院 理学研究科 博士課程 原子核理学専攻
  • 1966 - 1970 富山大学 文理学部 理学科物理学専攻
  • 1963 - 1966 京都府立綾部高等学校
学位 (1件):
  • 理学博士 (東北大学)
経歴 (10件):
  • 2025/01 - 現在 宝生科学研究所
  • 2022/10 - 2024/12 (フリーランス) イオン・電子ビーム照射装置設計コンサルタント
  • 2020/01 - 2022/09 株式会社 エリオニクス 開発技術部 主幹
  • 2016/01 - 2019/12 株式会社 エリオニクス 監査役
  • 2012/01 - 2015/12 国立研究開発法人 理化学研究所 大森素形材工学研究室 支援研究員
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受賞 (1件):
  • 2000/03 - 財団法人機械振興協会 第30回中堅・中小企業新機械開発賞 高加速電界放射型電子線描画装置の開発
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