抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
金属-半導体バリヤのキャリヤ伝達を理論的および実験的に解析し一般化した定量的な表示式を導いた。鏡像力の低下,温度,不純物の二次元変化を考慮に入れて熱電子過程,トンネル過程を解析し,10
16cm
-3付近で飽和電流密度が最小となること,低ドーピングで電流密度がやや増加することを導いた。バリア高さ0.85eVのPtSi-Si系では300°K,10
14cm
-3で飽和電流8nA/cm
2,10
16cm
-3で60nA/cm
2の最小値に達し,10
20cm
-3では103A/cm
3に急増する。ガードリング構造の金属-Siダイオードで実験した結果は理論とよく一致する;写図11表2参13