抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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半導体部品に使用されるMOに行う金皮膜処理は,従来,下地にNiめっきが必要であったが,新しい方法では,過酸化水素でMO表面に薄い多孔性酸化物を形成さす事で,直接電気めっき可能。また別の常温吹付方式による皮膜処理は,金属,ガラス,プラスチック,織物などの表面を均一な鏡面に仕上る;写1