文献

J-GLOBAL ID：201602000266645624   整理番号：71A0054949

w面:熱プロセス制御の新しい設計手法

The w plane - Applications of a new design aid for thermal process control.

著者 (2件)： ROOTS W K ,  MEEKER L D
資料名： IEEE Trans Ind Electron C  (IRE Transactions on Industrial Electronics)
巻： 18  号： 1  ページ： 5-11  発行年： 1971年 
JST資料番号： C0234A  ISSN： 0018-9421  CODEN： IICIA   資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ボイラ,炉などの工業用熱プロセスは,開ループゲインμ,立上り時定数Tおよび無だ時間Lをもった制御モデルで表わされるものが多い。このようなプロセスは閉ループ制御すると安定が問題になる。本文はμ,TおよびLに対応する複合パラメータν〔ν=L/T+log(μL/T)〕を誘導し,さらにw面に特性方程式w+exp(ν-w)を画き,これを用いて安定判別する方法を示した;写図3参9

シソーラス用語： プロセス制御 ,  安定判別 ,  特性方程式
準シソーラス用語： 制御系設計

タイトルに関連する用語 (2件)： プロセス制御 ,  設計手法