照射した雲母中のミクロン以下の孔のエッチング

BEAN C P; DOYLE M V; ENTINE G

文献

J-GLOBAL ID：201602000277439627 整理番号：70A0029063

照射した雲母中のミクロン以下の孔のエッチング

Etching of submicron pores in irradiated mica.

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資料名：
巻： 41 号： 4 ページ： 1454-1459 発行年： 1970年
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

PriceとWaekerにより発見されたように,核分裂粒子で照射した薄い雲母をHF中でエッチングすると小さい一様な孔が現われる。この孔の成長の過程を試料のコンダクタンスをエッチングが進行している間に測定する事によって調べた。252Cfで照射した場合のエッチングの結果について述べる。エッチングの機構についての適当な仮定を用いて.雲母とエッチング液界面の表面エネルギーを計算し,約300erg/(11)を得た;写図10参12

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