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J-GLOBAL ID:201602000532476477   整理番号:74A0182384

けい酸陰イオンのトリメチルシリレーション:結晶性シリケートとガラスの構造の研究法

Trimethylsilylation of silicate anions: A method of studying the structure of crystalline silicates and glasses.
著者 (2件):
資料名:
ページ: 261-276  発行年: 1971年 
JST資料番号: K19710224  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: フランス (FRA)  言語: 英語 (EN)
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直接トリメチルシリレーションの研究成果を述べ,これを種々のシリケート構造の研究へ応用して得られた成果を概説した。ZnG(Si:O,)・(OH)2・H20,K4H4(Si.012),Cup(Si6016)・6H:0の直接トリメチルシリレーションから得られる生成物のクロマトグラフ像を図示。さらにかんらん岩など8種のけい酸塩鉱物の直接トリメチルシリレーションによる生成物中のSiO;一,Si:Oi-,Si,0,:-Si4011ーの含有割合を表示。ガラスへの応用にもふれ,鉛けい酸ガラスのパターンを図説;写図10表2参8
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