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J-GLOBAL ID：201602000554359415   整理番号：72A0027963

高周波ダイオードスパッタ装置を研究装置として使用するための動作および性能

The operation and performance of an rf diode sputtering system in relation to its use as a research facility.

著者 (1件)： WITT G R
資料名： Vacuum  (Vacuum)
巻： 21  号： 12  ページ： 581-584  発行年： 1971年 
JST資料番号： E0347A  ISSN： 0042-207X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 薄膜コーティング装置に取り付けたMRCSM8500高周波ダイオードスパッタ装置に関する検討。金属,絶縁物および金属一絶縁物の混合物をスパッタし,スパッタ速度,一様性などを検討した;写図8参2

シソーラス用語： スパッタ ,  被覆
準シソーラス用語： コーティング

タイトルに関連する用語 (4件)： 高周波 ,  ダイオード ,  スパッタ装置 ,  研究