抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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MOS電界効果トランジスタ(MOSFET)のチヤネルの光効果の起因として1)半導体基板内の過剰キャリアの生成によるしきり値電圧の減少,2)チャネルの光伝導度,の2つについて簡単な理論的検討を行なった。つぎにCVD法によって被着したSnO
2ガラス薄康を透明なゲート電極とするMOS形FETを作〓チャネルの光効果の実験的検討を行なった。 基板とドレイン,ソースとを開放にしてチャネル領域に光を照射し,ドレイン・ソース間に流れる光電流を測定した結果は,チャネルの光伝導度によって定性的,定量的に大体説明できた;写図9