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J-GLOBAL ID：201602000750514143   整理番号：70A0351357

77°Kで放射線照射した酢酸フェニルの反応中間体と生成物

Reaction intermediates and products in the radiolysis of phenyl acetate at 77°K.

著者 (6件)： NORO Y ,  OCHIAI M ,  MIYAZAKI T ,  TORIKAI A ,  FUEKI K ,  KURI Z-I
資料名： J Phys Chem  (Journal of Physical Chemistry)
巻： 74  号： 1  ページ： 63-67  発行年： 1970年 
JST資料番号： C0334A  ISSN： 0022-3654  CODEN： JPCHAX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 77°Kでガラス状の酢酸フェニルのγ線照射で生ずるイオン種を可視~近赤外吸収スペクトルをESRによってしらべ酢酸フェニルの正負イオンラジカルと同定した。このイオンは赤外光照射で中和しアセチルラジカルを生ずる。MTHFおよびs-BuC1中の酢酸フェニルを77°Kで照射すると22Gおよび14Gの開きをもった二本線ESRスペクトルが観測されるがこれらはそれぞれ酢酸フェニルの負および正イオンラジカルに対応するものと考えられる。77°Kで照射した酢酸フェニルからの主な生成物はアニソール,フェノール,ヒドロキシアセトフェノンでアニソールの収率は酢酸フェニルが多結晶状態のとき,ガラス状態の場合の収率の2倍である。一方多結晶状態からのフェノールの収率はガラス状態のときの半分である(志田忠正)

シソーラス用語： スペクトル ,  フェニル基 ,  ラジカル ,  酢酸塩 ,  電子スピン共鳴 ,  放射線効果
準シソーラス用語： γ線 ,  遊離基

タイトルに関連する用語 (4件)： 放射線照射 ,  酢酸フェニル ,  反応中間体 ,  生成物