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J-GLOBAL ID：201602000759603343   整理番号：72A0161989

極性ラジカル V N-ブロムスクシンイミドおよび分子状臭素によるシクロヘキシルブロミドと1-プロムブタンの遊離ラジカル臭素化

Polar radicals. V. The free-radical bromination of cyclohexyl bromide and 1-bromobutane with N-bromosuccinimide and molecular bromine.

著者 (4件)： TANNER D D ,  MOSHER M W ,  DAS N C ,  BLACKBURN E V
資料名： J Am Chem Soc  (Journal of the American Chemical Society)
巻： 93  号： 22  ページ： 5846-5850  発行年： 1971年 
JST資料番号： C0254A  ISSN： 0002-7863  CODEN： JACSAT  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： アルキルラジカルと生成した臭化水素の可逆反応からの干渉を最小にする特別な条件下で標題反応を行い,これらのプロムアルカンの臭素化中に生成したラジカルの真に動力学的に決定された分布を調べた。通常の極性効果から予測される生成物分布が観察され,隣接臭素原子による隣接基関与の証拠は見出されなかった;表6参19

シソーラス用語： シクロヘキサン ,  スクシンイミド ,  ブタン ,  臭素 ,  臭素化
準シソーラス用語： シクロヘキサン/ブロム ,  スクシンイミド/ブロム ,  ブタン/ブロム ,  ブロム

タイトルに関連する用語 (7件)： 極性 ,  ラジカル ,  分子状 ,  臭素 ,  シクロヘキシルブロミド ,  遊離ラジカル ,  臭素化