若干のジシロキサンおよびテトラシロキサン化合物の調製と性質

HOEFNAGELS J A; MARVEL C S

文献

J-GLOBAL ID：201602000848747685 整理番号：71A0178819

若干のジシロキサンおよびテトラシロキサン化合物の調製と性質

Preparation and properties of some disiloxane and tetrasiloxane compounds.

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巻： 9 号： 6 ページ： 1755-1758 発行年： 1971年
JST資料番号： C0337C ISSN： 0022-3832 CODEN： JPLCA 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

ポリシロキサンと芳香族ヘテロ環構造とからなる耐熱性高分子の熱安定性を改良するには,ポリシロキサンセグメントはそれが開裂して安定な環構造を形成するのに必要な長さよりも短かくなければならないと考えて,テトラシロキサン単位を有する単量体を合成し,その熱安定性を調べた。窒素中では450°Cで空気中で400°Cで分解が始まり,高いTQを有する単位の間に短かいシロキサンセグメントを入れても熱安定性も高温での弾性体としての性質も改良されない。ジシロキサン単位を含むビスベンズイミダゾール,オキサゾール,およびチアゾールを合成して,その融点を比較した;写図1参5

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