文献
J-GLOBAL ID：201602000865034455   整理番号：66A0103371

ニッケル薄膜の電解晶出

Electrocrystallization of thin films of nickel.
  • 出版者サイト 複写サービスで全文入手
  • 高度な検索・分析はJDreamⅢで
著者 (3件)：
FLEISCHMANN M

FLEISCHMANN M について

, 
HARRISON J A

HARRISON J A について

, 
THIRSK H R

THIRSK H R について


資料名：
不明

不明 について


巻： 61  号： 12  ページ： 27-2753  発行年： 1965年 
JST資料番号： Z0000A  資料種別： 不明
記事区分： 原著論文  発行国： その他 (ZZZ) 
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
チオシアン化物溶液から水銀上へのニッケル薄膜の電着を研究。広い電圧領域にわたって単位格子の高さの単結晶が得られ,この単結晶は酸化されて不安定化合物になることなどを示した;図10表1参11
タイトルに関連する用語 (4件)：
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです
ニッケル

ニッケル について

, 
薄膜

薄膜 について

, 
電解

電解 について

, 
晶出

晶出 について


前のページに戻る

TOP

BOTTOM