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J-GLOBAL ID：201602000903474294   整理番号：73A0003987

流動層中のオリフィスからの気ほうの形成

A note bubble formation at an orifice in a fluidised bed.

著者 (2件)： NGUYEN X T ,  LEUNG L S
資料名： Chem Eng Sci  (Chemical Engineering Science)
巻： 27  号： 9  ページ： 1748-1750  発行年： 1972年 
JST資料番号： B0254A  ISSN： 0009-2509  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 流動層における気ほう径とガス流速の関係を調べるために厚さ0.6cmの二次元流動層による実験を行なった。気ほうの大きさ,気ほうひん度をカメラで測定した。ガス流速Gを気ほうひん度nで割ったG/nに対して一気ほうあたりの平均体積VはV=0.53G/nの関係にあり,ガスがロスしていることがわかった。この関係とDavidsonらの液体に対する式V諸1.138GI・2/ゼ・6とを結びつけた次式は本実験での結果とよく一致した。V=0.74G4’3/ゼ13al/3;写図4参8

シソーラス用語： オリフィス ,  気ほう ,  流動層

タイトルに関連する用語 (3件)： 流動層 ,  オリフィス ,  気ほう