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J-GLOBAL ID：201602000930737043   整理番号：65A0187020

急冷および照射により銅中に生じた電気抵抗の焼なまし皿電子照射による銅の研究。急冷された銅との比較

Recuits de la resistivity 4lectrique produi.te dans le cuivre par trempe et par irradiation.II.Etude du cuivre irradi aux Electrons.Comparaison avec du cuivre trsnpe.

著者 (3件)： BUDU C ,  LUCASSON P ,  LUCASSON A
資料名： J Phys  (Journal de Physique et le Radium)
巻： 26  号： 1  ページ： 9-18  発行年： 1965年 
JST資料番号： C0336A  ISSN： 0302-0738  CODEN： JOPQA   資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： フランス (FRA) 

抄録/ポイント： 同一の試料の一方は-175°Cで1.5MeVの電子を照射し,他方には水素中で急冷をおこなって,等温または等時焼なましをして,試料中に生成された点欠陥の移動度を比較した。活性化ユネルギーは建定できず低温では照射後に皿の段階に焼きなまることがわかった;図13表2参10

タイトルに関連する用語 (7件)： 急冷 ,  銅 ,  電気抵抗 ,  焼なまし ,  皿 ,  電子照射 ,  研究