抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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内円柱が回転する環状部内の流れは層流,Taylor渦+層流,乱流,Taylor渦+乱流の4領域がある.この報告はこれら4領域がRe数,内円柱回転速度,入口からの距離により変化する様子を煙法と熱線法により調べた.なお軸方向距離の影響については既にKaye&Elgarが取扱っている.その結果内円柱壁で発生したTaylor渦は急速に外側に成長し,流れ方向に移動する.その点までの入口からの距離はRe数が増加すれば増加し,Taylor数が増加すれば減少する.渦流への遷移は接線方向境界層が充分発達した場合とそうでない場合とがある;写3 図15 表1 参15