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J-GLOBAL ID：201602001392607572   整理番号：71A0034054

Pを拡散させたSi中の構造欠陥の研究

Исследование дефектов структуры в кремнии. вызванных диффузией фосфора.

著者 (3件)： СОРОКИН Л М ,  ПРОХОРОВ В И ,  БОРЮШКИН С Г
資料名： Fiz Tverd Tela  (Fizika Tverdogo Tela)
巻： 12  号： 12  ページ： 3431-3436  発行年： 1970年 
JST資料番号： R0029B  ISSN： 0367-3294  CODEN： FTVTA   資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 旧ソビエト連邦 (SUN)  言語： ロシア語 (RU)

抄録/ポイント： PC1,からsi中にPを拡散させることによって生じた構造欠陥を透過電子顕微鏡法と電子ミクロ回折法で研究した。一次(T=1050°C,3分)と2次(T=1100°C,42分)の拡散段階の後におけるsiの表面層(2500-5000A)をしらべた。欠陥の顕微鏡写真をとり,原因について考察した;写図6参18

シソーラス用語： りん ,  拡散 ,  格子欠陥 ,  電子回折 ,  電子顕微鏡観察
準シソーラス用語： Si中 ,  シリコン ,  りん(Si中) ,  電子顕微鏡法

タイトルに関連する用語 (4件)： 拡散 ,  Si ,  構造欠陥 ,  研究