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J-GLOBAL ID：201602001447364801   整理番号：71A0032043

無定形けい化クロムCr₅Si₃,CrSi₂のエレクトロノグラフによる研究

Электронографическое исследование аморфных пленок силицидов хрома - Cr₅Si₃ и CrSi₂.

著者 (4件)： БАУМ Б А ,  ПАВАРС И А ,  ГЕЛЬД П В ,  ЮРЬЕВ Г С
資料名： Izv Vyssh Uchebn Zaved Fi  (Izvestiya Vysshikh Uchebnykh Zavedenij. Fizika)
巻： 13  号： 11  ページ： 95-102  発行年： 1970年 
JST資料番号： R0145A  ISSN： 0021-3411  CODEN： IVUFA   資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 旧ソビエト連邦 (SUN)  言語： ロシア語 (RU)

抄録/ポイント： 100~130Aの厚さの無定形けい化物薄膜をエレクトロノグラフを用いて原子の動径分布を調べた。Cr,si,の無定形薄膜は原子の組成と配位は比較的一様であって組成の局所的変動は10%以下である。Crsi,の無定形薄膜は構造がミクロ的に不均一で原子がクラスターを形成している;写図5表3参5

シソーラス用語： 無定形
準シソーラス用語： エレクトロノグラフ ,  けい化クロム

タイトルに関連する用語 (4件)： 無定形 ,  けい化 ,  クロム ,  研究