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J-GLOBAL ID:201602001531606268   整理番号:61A0122293

酸化物マスク

Oxide masking.
著者 (2件):
資料名:
巻: 38  号: 11  ページ: 417-420  発行年: 1960年 
JST資料番号: B0061A  ISSN: 0005-8564  CODEN: BLRCA   資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 解説  発行国: アメリカ合衆国 (USA) 
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シリコンメサトランジスタの製造に二酸化シリコンをマスクとして利用すれば,アクセプタの拡散は妨げず,ドナーの拡散を阻止する性質があり非常に有用なことを,各工程を解説しながら述べた
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