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J-GLOBAL ID：201602001599060000   整理番号：67A0111810

硫酸溶液中のアルミニウムの陽極酸化膜の溶解

Dissolution of the anodic oxide film’on aluniniuni in a sulphuric acid solution.

著者 (2件)： NAGAYAMA M ,  TAMURA K
資料名： Electrochim Acta  (Electrochimica Acta)
巻： 12  号： 8  ページ： 1097-1107  発行年： 1967年 
JST資料番号： B0535B  ISSN： 0013-4686  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD) 

抄録/ポイント： 過渡時間tr(=118-126分)に達するまで,溶解速度は経時増加し,trを越えると急減し,ほとんど零になった。溶解最終段階では,高防食性の薄酸化層が現われた。陽極電位11.9Vで形成した膜で,膜中のA1量と溶解量が常に一致し,基質Alの腐食はなかうた。Keilerの模型を仮定し,結果を説明,一定溶解速度7.5×l09cm/分を得た。11.9V,94mA/cm2で陽極酸化中の孔底からの溶解速度は,1.04×10-4cm/分となった;図6表2参9

タイトルに関連する用語 (4件)： 硫酸溶液 ,  アルミニウム ,  陽極酸化膜 ,  溶解