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J-GLOBAL ID：201602001667342868   整理番号：70A0035096

炭素で汚染されたAu-Ni蒸着膜の析出現象 I

Precipitation phenomena in evaporated Au-Ni films contaminated with carbon. I.

著者 (1件)： KEIJZER A A
資料名： Proc K Ned Akad Wet Ser B  (Proceedings of the Koninklijke Nederlandse Akademie van Wetenschappen. Series B. Physical Sciences)
巻： 73  号： 2  ページ： 136-148  発行年： 1970年 
JST資料番号： D0389A  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： NaCl,KBτ,KIの上には1r5Torrの,またMgOの上には1rgTorrの真空中でAu。Ni薄膜を蒸着した。この蒸着膜は数分間真空中810-850°Cで均一化焼なましを行なった。焼なまし時間が長くなったり,温度が900°Cになったりすると,約50at%Niの組成の合金ではAuに富む相に対して種々の特定方位でNiに富む相の析出が見られる。これらの析出物が形成されるプロセスに関して推定を行なった。この析出はAu-Ni固溶限の温度領域に対応しており膜に入って来た炭素によって誘起されていると推定される。この炭素は真空容器の残留ガス中に存在している炭化水素が熱分解したものであると考えられる。固相線以下の温度では不連続析出の代りに連続析出のみが観察された;写図13

シソーラス用語： 蒸着膜 ,  析出 ,  薄膜
準シソーラス用語： Au-Ni合金

タイトルに関連する用語 (5件)： 炭素 ,  汚染 ,  蒸着膜 ,  析出 ,  現象