抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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C0,N
2,O
2,CH
4,H
2,Xe,Krの80°Kおよび20.4°Kでのシリカゲルへの吸着を10
-8~10
-2mmHgで測定し,Дубинин-Радушкевичの式は低温,低圧の領域でも用いられることを示した。この方法により低圧での表面の被覆度が求められる