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J-GLOBAL ID:201602002398083954 整理番号:72A0033194
万能型電子ビーム薄膜蒸着装置
A versatile system for controlled electron-beam deposition of thin films.
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著者 (1件):
ORON M
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資料名:
Vacuum (Vacuum)
Vacuum について
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巻:
21
号:
8
ページ:
315-318
発行年:
1971年
JST資料番号:
E0347A
ISSN:
0042-207X
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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zつの線形加速電子銃を使用した真空薄膜蒸着装置の設計および製作について述べた。8ステージの水冷蒸発源と8ステージの温度制御した基板ホルダをもっている。動作特性についても述べた;写図4参2
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
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真空蒸着
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電子ビーム蒸着装置
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