抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
原子核乾板における偽散乱に特に注意しながらひずみの測定をした結果,深さの方向のひずみと,射影面のひずみとの間に強い相関があることが見出された。前者の原因は,薄膜が一様でないためであり,後者の原因は二つの要因があることが判明した。すなわち一つは,平面の凹凸,他は製造過程である。飛跡面内のは散乱に附加的な成分をもたらし,この成分といわゆる偽散乱との間には強い相関がある。ガラス上に薄膜を作った乾板では,比較的低いレベルでの偽散乱が生ずることが分った