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J-GLOBAL ID:201602002750386997   整理番号:64A0030263

タングスナン-レニウム合金の電解エワチングおよび研摩

ЭЛЕКТРОЛИТИЧЕСКОЕ ТРАВЛЕНИЕ И ПОЛИРОВКА СПЛАВА ВОЛЬФРАМ РЕНИЙ
著者 (3件):
資料名:
巻:号:ページ: 124-130  発行年: 1965年 
JST資料番号: R0154A  ISSN: 0021-3438  CODEN: IVUTA   資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 旧ソビエト連邦 (SUN) 
抄録/ポイント:
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BP - 20合金表面のアルカジ電解質中での電解エッチ・ングおよび研摩の最適条件を選定した.エッチングには,15 - 20 φNaOHの電解質中で20 - 80°.Da,=0.1-10A/・s.研摩には0.5-5φNa,0Hの液中で室温。Da,=0.1-10A/・sで行なう.この際の機構を考察した;写1図2表1828
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