文献

J-GLOBAL ID：201602002941189628   整理番号：70A0037186

斜方蒸着したニッケル・クロム系薄膜の抵抗値に関する研究

著者 (2件)： はたけ山豊正 ,  四谷平治
資料名： 富山大学工学部紀要  (Bulletin of Faculty of Engineering, Toyama University)
巻： 21  ページ： 41-44  発行年： 1970年 
JST資料番号： F0513A  ISSN： 0387-1339  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： Cr,Ni,Ni-Crを斜方蒸着し,抵抗値を調べた。Cr薄膜は酸化のためバルクの場合にくらべて非常に大きな比抵抗値を示した。蒸着角が大きな所でも理論値に比較して非常に大きな膜抵抗値を示した。この原因は島状構造が原因しているものと思われる。異方性は通常の金属薄膜に観察されるものと同じであった;写図8表1参10

シソーラス用語： ニクロム ,  ニッケル ,  蒸着膜 ,  電気抵抗
準シソーラス用語： クロル ,  斜方蒸着

タイトルに関連する用語 (5件)： 蒸着 ,  ニッケル ,  クロム ,  薄膜 ,  研究