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J-GLOBAL ID：201602003024913763   整理番号：71A0043248

エチレンジアミンーピロカテコールー水混合物のほう素をドープしたシリコンに対する不規則なエッチング

Ethylene diamine-pyrocatechol-water mixture shows etching anomaly in boron-doped silicon.

著者 (1件)： BOHG A
資料名： J Electrochem Soc  (Journal of the Electrochemical Society)
巻： 118  号： 2  ページ： 401-402  発行年： 1971年 
JST資料番号： C0285A  ISSN： 0013-4651  CODEN： JESOAN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 表記混合物はP-n結合をもつ試料に対してn型シリコンのみエふするといわれているが.ほう素をドープしたシリコンに対して:1;CI度に伴ないエッチ速度に急激な変化をもたらす,本報告ではに備合のほう素濃度の影響に関〔て研究し,シリコン中での電気的縫性なほう素原子の臨界濃度について検討を加えた;写図1参2

シソーラス用語： エッチング
準シソーラス用語： エッチング(ボロンドーピングシリコン) ,  けい素シリコン ,  けい素シリコン(ボロンドーピング/エッチング) ,  ボロンドーピング ,  ボロンドーピングシリコン

タイトルに関連する用語 (6件)： 水 ,  混合物 ,  ほう素 ,  ドープ ,  シリコン ,  エッチング