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J-GLOBAL ID：201602003102149412   整理番号：71A0118030

Al,TaおよびTi上での陽極酸化膜の電解破壊時の結晶化

Electrolytic breakdown crystallization of anodic oxide films on Al,Ta and Ti.

著者 (2件)： YAHALOM J ,  ZAHAVI J
資料名： Electrochim Acta  (Electrochimica Acta)
巻： 15  号： 9  ページ： 1429-1435,1430(8)  発行年： 1970年 
JST資料番号： B0535B  ISSN： 0013-4686  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ある電流密度,電解液中での陽極化に伴なう表記金属のセル電圧変化を調べるとともに,破壊前後の陽極膜を電顕,X線回折で調べた。Alは41.5Vで破壊レベルに達し,その後は36Vの一定電圧を示し,破壊前では結晶化していないが,破壊後では結晶の核を生成している。同様にTaは160Vで破壊レベルに達してこの段階で膜中に結晶化が認められ,TiではEMFは漸増の傾向を示すが,85Vに破壊点があり,この点で粗大化した多結晶構造を認める。最後にこれらの一致した傾向より電解破壊の機構についても種々考察を加える;写図15表3参13

シソーラス用語： アルミニウム ,  タンタル ,  チタン ,  結晶化
準シソーラス用語： Al ,  Ta ,  Ti ,  アルミニウム(陽極酸化膜) ,  タンタル(陽極酸化膜) ,  チタン(陽極酸化膜) ,  結晶化(陽極酸化膜) ,  陽極酸化膜 ,  陽極酸化膜(Al:Ta:Ti)

タイトルに関連する用語 (7件)： Al ,  Ta ,  Ti ,  陽極酸化膜 ,  電解 ,  破壊 ,  結晶化