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J-GLOBAL ID：201602003578849269   整理番号：70A0043287

電着したNi-Fe-P薄膜の磁気特性

Magnetic properties of electrodeposited nickel-iron-phosphorus thin films.

著者 (3件)： MUKASA K ,  SATO M ,  MAEDA M
資料名： J Electrochem Soc  (Journal of the Electrochemical Society)
巻： 117  号： 1  ページ： 22-25  発行年： 1970年 
JST資料番号： C0285A  ISSN： 0013-4651  CODEN： JESOAN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 電着により作成したニッケルー鉄薄膜はコンピュータの記憶素子として用いられているが,最近下地表面の性質が薄膜の磁気特性に影響を与えることが報告された。そこで一方向に引っかきを入れた下地の上に電着したNレ線e薄膜における磁気特性に与える電解浴中の次亜りん酸イオンの効果について研究。その結果,前記イオンの存在は単軸磁気異方性の減少をもたらした。この現象は前記イオンの存在のための飽和磁化の減少によるものであることがわかった,写図5参18

シソーラス用語： ニッケル ,  磁気的性質 ,  鉄 ,  薄膜
準シソーラス用語： Fe-P薄膜 ,  Ni-Fe-P ,  Ni-Fe-P薄膜 ,  Ni-P薄膜 ,  ニッケル(-Fe-P薄膜) ,  磁気的性質(Ni-Fe-P薄膜) ,  鉄(-Ni-P薄膜) ,  電着膜 ,  電着膜(Ni-Fe-P) ,  薄膜(Ni-Fe-P)

タイトルに関連する用語 (3件)： 電着 ,  薄膜 ,  磁気特性