文献

J-GLOBAL ID：201602003663395676   整理番号：65A0075143

ゲルマニウムのエピタクジー層の成長速度法によるよう素との反応速度

О кинетике реакций в иодидном методе выращивания эпитаксиальных слоев германия.

著者 (3件)： ДОРФМН В Ф ,  КИСЛЯКОВ И П ,  БОЛЬШАКОВ К А
資料名： Zh Fiz Khim  (Zhurnal Fizicheskoj Khimii)
巻： 39  号： 4  ページ： 996-1000  発行年： 1965年 
JST資料番号： R0136A  ISSN： 0044-4537  CODEN： ZFKHA   資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 旧ソビエト連邦 (SUN) 

抄録/ポイント： 反応初期のよう素化した領域の長さはよう素ガスの量が多いほど大きくよう素の消費とともに増大するがよう素の量が少ないときはそれにあまり依存しない。ゲルマニウムとよう素の量による層の成長速度の変化および成長速度の温度依存性を考察した

タイトルに関連する用語 (4件)： ゲルマニウム ,  成長速度 ,  よう素 ,  反応速度