抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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1964年4月29日,ハノーバー博国際会議におけるE.Raubの講演内容。機械研摩した銅下地に電着した厚さ200Aのニッケル層の電子顕微鏡写真,光輝・ニッケル電着表面(12~45μ)の干渉顕微鏡写真,Watts浴で銅板に電着した厚さ2μのニッケル層,厚さ60μ120μのニッケル下地に電着した薄いクロム層のX線回折像などを挙げ,電着加工に関する最近の研究開発状況,光輝電着層の再結晶化について解説紹介(続く);写5