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J-GLOBAL ID：201602003825933316   整理番号：70A0179067

SH化合物による間接的な放射線防護:モデル化学系

Indirect radioprotection by sulfhydryl compounds: A model chemical system.

著者 (3件)： LOMAN H ,  VOOGD S ,  BLOK J
資料名： Radiat Res  (Radiation Research)
巻： 42  号： 3  ページ： 437-445  発行年： 1970年 
JST資料番号： D0484A  ISSN： 0033-7587  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： OHラジカルの攻撃によってエタノール,ぎ酸塩,メタノールから生じるラジカルが10⁵M^-1秒^-1のけたの速度定数で,チミン発色団を壊すことが可能なことが示されている。少量のシスティンを加えるとチミンはほぼ完全に防護される。これはH原子がSH化合物から有機ラジカルに転移して親の有機分子を元に戻し,有機ラジカルのチミンとの反応を防護することによって説明される。DNA構成分のこの型の間接的な防護は生きている細胞におけるDNAの放射線防護に関して重要である可能性が示唆されている。この論文ではこの点をチミンをモデル系にして示そうとしている;写図4表2参14

シソーラス用語： DNA ,  システイン ,  チミン ,  メルカプト基 ,  化学反応 ,  反応速度論 ,  放射線防護薬
準シソーラス用語： スルフヒドリル基 ,  動物細胞 ,  反応動力学 ,  放射線防護剤

タイトルに関連する用語 (3件)： 間接 ,  放射線防護 ,  モデル