文献

J-GLOBAL ID：201602003849428426   整理番号：72A0132829

純NiOおよびクロムイオンドープNiOの欠陥構造と電気伝導度

Electrical conductivities and defect structures of pure NiO and chromium-doped NiO.

著者 (2件)： MEIER G H ,  RAPP R A
資料名： Z Phys Chem Neue Folge  (Zeitschrift fuer Physikalische Chemie)
巻： 74  号： 3/6  ページ： 168-189  発行年： 1971年 
JST資料番号： E0443A  ISSN： 0044-3336  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 純NiOおよびクロムイオンドープMoの電気伝導度を700~1200°Cにて測定。 純ti i Oの正孔の伝導度は0,分圧P,/6に比例し,クロムイオンドープNioはpl/4に比例。 Nio中へのCr’÷の溶解度を測定したところ,1100°Cで0’015,1000°Cで0.013.850°Cでo.00s5モル分率となり,また溶解度はO,分圧には無関係でありCr”がNiO中のカチオンの抜けた孔により完全に補償されるとするモデルに一致する。ti i-Cr合金の酸化における”ドープ効果’,の関係について記述;写図10表4参36

シソーラス用語： 酸化ニッケル ,  電気伝導 ,  半導性
準シソーラス用語： 酸化ニッケル(半導性) ,  導電性 ,  導電性(酸化ニッケル) ,  半導性(酸化ニッケル)

タイトルに関連する用語 (2件)： 欠陥構造 ,  電気伝導度