抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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窒化膜中のトラップへ直接トンネリングすることによってMNOS造の窒化膜中へのキャリヤーの注入について調べた。その結果,この注入機構は低い窒化物電界(1~4MV/cm)では薄い酸化層を持ったMNOS構造にとっては非常に重要であることがわかった。この注入電流の電界,温度および酸化膜厚依存性を理論的実験的に調べた。さらにこの機構が大低の絶縁体中の電荷輸送にとって非常に重要であることを指適する;写図11表1参14