{{ $t("message.ADVERTISEMENT") }}
{{ $t("message.AD_EXPIRE_DATE") }}{{ad01_expire_date}}
{{ $t("message.ADVERTISEMENT") }}
{{ $t("message.AD_EXPIRE_DATE") }}{{ad02_expire_date}}
文献
J-GLOBAL ID:201602004088954095   整理番号:60A0051447

ゲルマニウム表面のイオン衝撃,酸化,再生

The ion bombardment,oxidation and regeneration of germanium surfaces.
著者 (2件):
資料名:
巻: 14  ページ: 124-130  発行年: 1960年
JST資料番号: C0202A  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA) 
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
高感度の石英微量てんびんとオメガトロン型質量分析計を組み含わせて用いて酸素とゲルマニウム表面の相互作用を研究した。ここではアルゴンイオンでたたいたGe表面の3mmHgの酸素中での酸化(23°Cにおける吸着酸素の量)を測定した。なおかかる実験には,面の清潔さは原子の程度でなくてはならぬこと,面の方位,完全度をも考慮が必要である:半導体表面についての第二回会議;1959年12月2~4日メリーランドにて開催
タイトルに関連する用語 (3件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る