抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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ピエゾ吸収の測定をSiについて多重フォノンのスペクトル領域(5(11)0。100(1)cm-,)で行なった。〔100〕軸に沿って一軸性応力を加え,光は応力軸に平行(ll〔100〕)または垂直(⊥〔100〕)に偏光させた。静水圧によって誘起された吸収定数の変化をその結果から計算した。ピエゾ吸収バンドの符号と位置は,Siにおける2フォノン吸収構造を与える臨界点に対するトポロジー的分類を与える;写図3参26