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J-GLOBAL ID：201602004802044758   整理番号：60A0014716

薄膜の焼なましと酸化のX線反射法による研究

X-ray reflection studies of the anneal and oxidation of some thin solid films.

著者 (2件)： WAINFAN N ,  PARRATT L G
資料名： J Appl Phys  (Journal of Applied Physics)
巻： 31  号： 8  ページ： 1331-1337  発行年： 1960年
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA) 

抄録/ポイント： みがいたガラス下地上へ真空蒸着したGu,Ni,Ge,Seの薄膜の研究にX線全反射法を使用した。真空中熱処理または酸化によるX線反射曲線の変化から表面構造の変化が調べられる

タイトルに関連する用語 (5件)： 薄膜 ,  焼なまし ,  酸化 ,  X線反射 ,  研究