文献

J-GLOBAL ID：201602004989215623   整理番号：70A0249941

熱成長Sio₂薄膜の座屈

Buckling of thermally grown SiO2 thin films.

著者 (3件)： WILMSEN C W ,  THOMPSON E G ,  MEISSNER G H
資料名： SWIEEECO Rec Tech Program  (SWIEEECO Record of Technical Program Papers)
巻： 22nd  ページ： 92-96  発行年： 1970年 
JST資料番号： D0550A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Siウエフア上に熱成長させたSio₂薄膜の座屈を研究した。座屈は小さな直角の窓のエッチングの間で生じ,二つの材料の熱膨張の差に起因している。酸化膜厚と窓幅の比(t/w)が非常に小さいと圧縞によってSio₂に座屈が生ずる。酸化膜厚,酸化温度.窓の寸法の間の近似的な関係を可ぎょう板の理論をもとにして導き,これから座屈が生ずるか否かを見きわめることができることを示した。エッチンクした窓の形は角形で.幅は0.1-0.3mm.長さは0.1-10mmの範囲で変えている。エッチング液の検討も行なった;写図7参4

シソーラス用語： 座屈
準シソーラス用語： SiO₂薄膜 ,  SiO₂薄膜(熱成長/座屈) ,  座屈(SiO₂薄膜) ,  熱成長

タイトルに関連する用語 (4件)： 成長 ,  SiO2 ,  薄膜 ,  座屈