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J-GLOBAL ID：201602005189877721   整理番号：71A0243535

IC.LSI製造に屠いられる縮小光学系の設計基準と問題点

著者 (1件)： わき本善司
資料名： 画像技術
巻： 1  号： 1  ページ： 97-104  発行年： 1970年 
JST資料番号： S0220A  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 微小回路や集積回路の製作のために,マイクロ写真技術を応用した加工方式が現在採用されており.専用の縮写光学系が供給されている。 本稿では,その基準および仕様決定,感光材料の光学特性,照明系などの問題をあわせ考察するとともに,今後の技術動向についても言及;表1

シソーラス用語： LSI ,  マイクロ写真 ,  集積回路 ,  集積回路
準シソーラス用語： IC ,  LSI(縮写光学系/マイクロ写真) ,  マイクロ写真(IC/LSI) ,  集積回路(縮写光学系/マイクロ写真) ,  集積回路製造 ,  集積回路製造(縮写光学系/マイクロ写真) ,  縮写光学系 ,  縮写方式 ,  縮写方式(IC/LSI)

タイトルに関連する用語 (6件)： IC ,  LSI ,  縮小 ,  光学系 ,  設計基準 ,  問題点