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J-GLOBAL ID：201602005192928760   整理番号：70A0286389

外部から導かれた電流の影響下で,低温での銅の酸化機構

Kinetics of oxidation of copper at low temperatu res under the influence of externally induced current flow.

著者 (3件)： ROY S K ,  KRISHNAMOORTHY P K ,  SIRCAR S C
資料名： Acta Metall  (Acta Metallurgica)
巻： 18  号： 5  ページ： 519- 529  発行年： 1970年 
JST資料番号： A0316A  ISSN： 0001-6160  CODEN： AMETA   資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 75-101°Cの温度領域で.乾燥空気中で,両極の電流(0.2A-0.8A)を流して銅の酸化機構を調べた。酸化速度は電流の方向に依存して増加または減少する。酸化速度遅帯現象は,ウイリアムらの対数方程式により論じた。電流は,酸化物を電気分解させ,酸化物内のカチオン空格子点濃度を変化させることがわかった。酸化速度促進現象はモットらの放物線的方程式により論した。対数則から放物線則への変化は,過程の機構の変化に依る。酸化物-ガス界面における電子の過剰利用により,律速段階が電子の利用から,電場誘起拡散に変化する;写図11表4参25

シソーラス用語： 銅
準シソーラス用語： 酸化機構 ,  酸化機構(銅/電流の影響) ,  電流の影響 ,  銅(酸化機構/電流の影響)

タイトルに関連する用語 (3件)： 低温 ,  銅 ,  酸化機構